PVD vakuumska linija za kontinuirano raspršivanje magneta

PVD vakuumska linija za kontinuirano raspršivanje magneta

Detalji
PVD vakuumska linija za neprekinuto raspršivanje magneta je visokospecijalizirani proizvodni sistem, koji se uglavnom koristi za nanošenje jednog ili više slojeva tankih funkcionalnih filmova na površinu podloga (kao što su staklo, plastika, metal, keramika, itd.).
Stanje: Novo
Garancija: 1 godina
Nakon{0}}omogućene usluge nakon prodaje: instalacija na terenu, puštanje u rad i obuka, inženjeri dostupni za servisiranje mašina u inostranstvu
Certifikacija: CE, ISO9001
Podloga: plastika, PC/PMMA/PET lim, staklo, keramika, itd.
Materijal vakuumske komore: vrhunski nerđajući čelik SUS-304
Veličina vakuumske komore: Po meri-
Materijal za taloženje: Titan/aluminij/hrom/bakar/TiAl/TiN/SS, metalni filmovi kao što su Al, Cr, SUS, Ni, Sn, Ti i legure itd.
Funkcija filma premaza: Dekorativna, super tvrda, otporna- na habanje, anti-korozijska, reflektirajuća, zaštitni efekat, provodljivost, ne-provodljivost, itd.
Klasifikacija proizvoda
Kontinuirana linija premaza
 
Pošaljite upit
Opis
Tehnički parametri

PVD vakuumska linija za kontinuirano raspršivanje magneta, usredsređena na magnetronsko raspršivanje, proces radi u visoko-vakuum okruženju gdje kombinovana električna i magnetska polja ograničavaju elektrone da bombardiraju ciljni materijal, ova akcija raspršuje atome ili molekule iz mete, taloži ih na površinu pokretne podloge.


Kompatibilan sa DC, MF i RF izvorima napajanja, sistem može deponovati metalne filmove, folije od legure, oksidne dielektrične filmove i višeslojne kompozitne funkcionalne filmove.


Sistem kontinuiranih komora sa segmentiranom izolacijom za održavanje gradijenata vakuuma, sa nezavisnim zonama za punjenje, premazivanje i istovar, čime se omogućava neprekidna, kontinuirana proizvodnja.

 

 

Karakteristike opreme

 

Kontinuirana proizvodnja eliminira potrebu za uzastopnim prekidom vakuuma
Segmentirana vakuumska brava-komora omogućava kontinuirani transport supstrata u i iz opreme, eliminirajući vrijeme čekanja na usisavanje i ventilaciju povezano sa serijskom obradom i značajno povećavajući kapacitet proizvodnje.

 

Nisko{0}}proces nanošenja premaza
Porast temperature podloge se može kontrolisati, čime se sprječava oštećenje fleksibilnih i plastičnih podloga osjetljivih na toplinu{0}} kao što su PET, PI, PC i akril. Takođe je kompatibilan sa podlogama od stakla, keramike i metalnih limova.

 

Sloj filma je gust i ujednačen, sa jakim prianjanjem
Optimizacija magnetnog polja-velike površine osigurava odličnu uniformnost debljine filma na cijeloj podlozi.

 

Fleksibilna konfiguracija cilja i širok raspon materijala za premazivanje

 

Modularni dizajn mašine, visok stepen prilagođavanja
Može se prilagoditi prema veličini podloge kupca, širini, proizvodnom kapacitetu i zahtjevima sistema filma.

 

PLC automatizacija kontrole
Touchscreen HMI; procesni parametri se mogu pohraniti i pratiti.

 

 

 

Prijave:

 

 

Tvrda ploča: staklo, keramika, PC ploča

 

Staklo za građevinske i kućne aparate:

Nisko{0}}E energije-staklo za uštedu energije, ploče za kućne aparate, ukrasna ogledala, automobilsko staklo, HUD optičko staklo

 

Fotonaponska industrija: fotonaponski pokrov TCO vodljivi film

 

Potrošačka elektronika: staklo na dodir, PC/PMMA dekorativni provodljivi listovi

 

Keramička podloga: DPC keramička bakrena obloga, metalizirani premaz na keramičkoj ploči

 

Dekoracijska industrija: dekorativni film za ploče velike površine, funkcionalni film protiv -korozije

 

Vakuumsko premazivanje bakra, srebra i drugih provodljivih materijala na površini keramike električnih komponenti i keramičkih ploča.

 

Pogodan je i za vakuumsko nanošenje različitih slojeva metalnog filma na površinu drugih ploča{0}}kao što su obradaci (staklo, akrilne ploče, itd.);

Continuous Reflective Film Magnetron Sputtering Vacuum PVD Coating Line
Magnetron Sputtering Continuous Coating Line
Magnetron Sputtering Continuous Coating Line

 

Glavne karakteristike:


Magnetno polje ograničava plazmu

Ovo je osnovna karakteristika magnetronskog raspršivanja. Primjenom jakog magnetskog polja specifičnog oblika (obično oblika prstena ili trkačke staze) u blizini ciljne površine, elektroni su ograničeni blizu površine mete kako bi napravili spiralno kretanje, što uvelike povećava vjerojatnost sudara i jonizacije elektrona s atomima radnog plina (obično argona).


Visoka stopa ionizacije i visoka stopa taloženja

Zadržavanje magnetnog polja značajno povećava gustinu plazme i brzinu jonizacije, čineći proces raspršivanja efikasnijim.

To znači da se pri relativno niskom pritisku gasa i niskom naponu/snazi ​​raspršivanja mogu postići mnogo veće stope raspršivanja i taloženja od konvencionalnog DC raspršivanja.

 

Proces niske temperature

Budući da se većina energije koristi za jonizaciju plina i atoma za raspršivanje, relativno malo topline se prenosi na supstrat.

 

Dobar kvalitet filma

Dobra gustina, jaka adhezija, visoka čistoća i dobra uniformnost.

 

Širok raspon prilagodljivosti materijala

 

Dobra kontrola procesa


Proizvodna linija premaza za magnetron raspršivanje postala je jedna od glavnih tehnologija za pripremu funkcionalnih tankih filmova (kao što su optički filmovi, provodljivi filmovi, tvrdi filmovi otporni- na habanje, dekorativni filmovi, anti-filmovi protiv korozije, magnetni filmovi, poluprovodničke folije, itd.) u modernoj industriji, zbog svojih osnovnih karakteristika visoke temperature i prednosti u procesu niske temperature. (kompaktna, jaka prianjanja), široka prilagodljivost materijala, dobra uniformnost i mogućnost kontrole.

 

 

Popularni tagovi: PVD vakuumska linija za kontinuirano raspršivanje magneta, Kina Proizvođači, dobavljači, tvornica, PVD vakuumska linija za nanošenje kontinualnog magnetnog raspršivanja

Pošaljite upit
Kontaktirajte nasAko imate bilo kakvih pitanja

Možete nas kontaktirati putem telefona, e-pošte ili online obrasca ispod. Naš specijalista će vas kontaktirati ubrzo.

Kontaktirajte sada!