Keramički substrat PVD-ov stroj za oblaganje je ključna oprema za tanak tanki filmski tanak tanki film keramičkih materijala (kao što su aluminijski oksid, aluminijum nitrid, silicijum nitrid, cirkonijum oksid, itd.).
Koristi fizičku tehnologiju taložnosti pare pod vakuumskom okruženjem za formiranje različitih funkcionalnih filmova na površini keramičkih supstrata.
Keramički supstrat Strojevi za oblaganje postali su neophodna jezgra za realizaciju površinske funkcionalizacije keramičkih supstrata (provodljiva, toplotna, optička, itd.) U visokoelektroniku, poluvodičkim elektronikom i drugim poljima, preciznoj kontroli procesa, višestruke tehnologije za prevlačenje i odlična svojstva tankog filma (visoka Čistoća, gustoća, jaka adhezija, visoka preciznost).
Primjene:
Elektronsko pakovanje
Metalizacija na držaonima LED čipova, podloge za napajanje modula, mikrovalne kućište / podloge za RF uređaju / podloge i poluvodičke keramičke pakete.
Optoelektronika
Metalizacija keramičkih supstrata / hladnjaka za LED diode, lasere i fotodetektore.
Poluvodiči
Međusobne veze na MEMS uređaju Strukturni slojevi, senzor elektrode i slojevi keramičkih izolacije.
Elektronika elektronike
Površinska metalizacija (CU, AL) i barijere / Zaštitni slojevi keramičkih supstrata (DCB, AMB) za uređaje za napajanje kao što su IGBT i MOSFET.
Tanki filmski krugovi
Tanki filmovi otpornici, kondenzatori, induktori i dalekovodi na keramičkim podlozi za hibridne integrirane krugove i mikrovalne milimetarske talasne krugove.
Senzori
Funkcionalne elektrode i vodi za različite keramičke senzore supstrata (pritisak, temperatura, plin).
Aerospace i odbrana
Visoka pouzdanost, ekstremno otporne na elektroničke komponente i keramičke dijelove.
Popularni tagovi: Keramički stroj za oblaganje, kineski keramički PVD strojevi, dobavljači, tvornica
